[发明专利]快速完成曝光时面板与掩膜精确对位的方法

摘要

一种快速完成曝光时面板与掩膜精确对位的方法，它利用感光干膜实现面板与掩膜精确对位的方法，快速完成精确对位。它可以广泛用于PDP面板上光敏介质层的制备工艺中。

主权项

一种快速完成曝光时面板与掩膜精确对位的方法，其特征是它包括以下步骤：a、面板（1）准备，在有电极的面板上整板印刷光敏介质，并烘干； b、掩膜（4）准备，清洁掩膜；c、感光干膜（6）准备，在干膜切割机上切取与介质面板尺寸大小一致的感光干膜；d、粘尘辊清洁曝光机的上下板面；e、将感光干膜吸附在彩色光滑纸上（5）；f、将清洁好的掩膜（4）固定在曝光机内的上板面上（2）；g、将贴有感光干膜的光滑纸固定在曝光机内的下板面（3）上即曝光区，移动感光干膜，尽量使它放在曝光区的中间；h、对感光干膜进行10—15秒钟的曝光；i、将面板（1）放置干膜（6）上，根据感光干膜上的对位标记（7），用肉眼将面板对位标记与其初步对齐；j、通过CCD对位装置寻找对位标记，通过曝光机的x‑y滚轴调节功能，手动微调下板面（3），使观察到的两个对位标记完全重合，从而实现最终的精确对位；k、对精确对位后的面板（1）正常曝光。