[发明专利]掩模对准光学系统无效

专利信息
申请号: 201210417196.5 申请日: 2012-10-26
公开(公告)号: CN103088290A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 松本房重;龟山大树;郑载勋;李相雨 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;郑永梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供掩模对准光学系统,其利用透射照明方式而性能良好,且能有效应用掩模。掩模对准光学系统在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室(1)中,进行基板(6)与金属掩模(102)的对准,并且具备固定框架(101)和载物台(201),固定框架(101)形成在金属掩模的周围且在四角上形成有“L”字状的导光路,载物台(201)在表面上搭载基板,且在其四角上形成有“L”字状的导光路,利用由导入到形成在固定框架的一部分上的导光路(103)及形成在载物台的一部分上的导光路内的光形成的对准标记的透射像,进行与金属掩模的对准。
搜索关键词: 对准 光学系统
【主权项】:
一种掩模对准光学系统,在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室中,进行该基板与由金属薄膜构成的金属掩模的对准,其特征在于,具备固定框架和载物台,所述固定框架形成在所述金属掩模的周围,且在其四角上形成有“L”字状的导光路,所述载物台在表面上搭载所述基板,且在其四角上在与所述固定框架的导光路相对应的位置上形成有“L”字状的导光路,利用设在所述金属掩模的一部分上的金属掩模标记和设在所述基板的一部分上的对准标记的由透射照明形成的像,进行与金属掩模的对准,所述透射照明是由导入到形成在所述固定框架上的导光路及形成在所述载物台上的导光路内的光形成的。
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