[发明专利]铝质等离子体室部件的清洁方法有效
| 申请号： | 201210411911.4 | 申请日： | 2012-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103084353A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 石洪;约翰·多尔蒂;迪安·J·拉森;黄拓川;阿门·阿沃扬;杰里米·张;西瓦克米·拉马纳坦;罗伯特·安德森;方言;杜安·乌特卡;保罗·马尔格鲁 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种清洁等离子体室组件表面的方法，其中：该组件具有铝或阳极化铝表面，该方法包括步骤：把该组件的该表面浸泡在稀释的硫酸过氧化物（DSP）溶液中；把该表面从该DSP溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；把该表面浸泡在稀硝酸（HNO3）溶液中；把该表面从该硝酸溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；且重复在稀硝酸中浸泡该表面然后喷射冲洗该表面的步骤至少两次。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 部件 清洁 方法 | ||
【主权项】：
一种清洁处理半导体基板的等离子体室的组件的铝或阳极化铝表面的方法，该方法包括：把该表面浸泡在稀释的硫酸过氧化物（DSP）溶液中；把该表面从该DSP溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；把该表面浸泡在稀硝酸（HNO3）溶液中；把该表面从该硝酸溶液移除之后，喷射冲洗该表面；且重复在稀硝酸中浸泡该表面然后喷射冲洗该表面的步骤至少两次。
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