[发明专利]涂覆结构及其形成方法和具有该涂覆结构的装置有效
| 申请号： | 201210409912.5 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103129062B | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 朴炳夏;赵相镐;金明坤;宋基镕;咸喆;黄仁吾 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;C09D183/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 韩芳,刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种涂覆结构及其形成方法和具有该涂覆结构的装置，其中，通过在待涂覆的产品和涂层之间形成氧化铝层和二氧化硅层来形成所述涂覆结构，所述涂覆结构可以提高涂层的耐久性、可靠性和防侵蚀性，此外，还可以提高产品良率。形成在产品表面上的涂覆结构包括形成在产品表面上的氧化铝(Al2O3)层、形成在氧化铝(Al2O3)层的表面上的二氧化硅(SiO2)层和形成在二氧化硅(SiO2)层上的涂覆组合物层。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 及其 形成 方法 具有 装置 | ||
【主权项】：
一种形成在产品表面上的涂覆结构，所述涂覆结构包括：氧化铝层，形成在产品表面上；二氧化硅层，形成在氧化铝层的表面上；以及涂覆组合物层，形成在二氧化硅层上，其中，氧化铝层具有至的厚度，其中，所述涂覆组合物层包括具有由式1：[RaO‑(CH2CH2O)p‑Rb‑]表示的R1基团和由式2：(Rc)q表示的R2基团的硅烷低聚物，其中，Ra选自于由氢和具有1个至3个碳原子的烷基组成的组；Rb选自于由具有5个至20个碳原子的烷基、具有5个至20个碳原子的烯基、具有5个至20个碳原子的炔基、具有5个至20个碳原子的芳基、具有6个至20个碳原子的芳烷基、具有5个至20个碳原子的环烷基和具有5个至20个碳原子的杂烷基组成的组；p是1至12的整数，Rc是具有3个至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。
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