[发明专利]IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法

摘要

一种IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法，所述IP核检测版图，包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则。利用所述IP核检测版图和周围电路版图相结合进行设计规则检测，如果发现IP核检测版图和周围电路版图有冲突，可以立即对周围电路版图进行修改，节省了片上系统的设计时间，且IP核用户只能获得边缘区域的版图，无法通过所述IP核检测版图获得整个IP核的电路或版图，依然利于保护IP核的知识产权。

主权项

1.一种版图设计系统，其特征在于，利用如下所述的IP核检测版图进行片上系统版图设计，所述IP核检测版图包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则；所述版图设计系统包括：用于集成电路版图设计的计算机辅助设计单元、设计规则检测单元和与所述计算机辅助设计单元、设计规则检测单元相连接的数据存储单元；所述数据存储单元存储的文件包括IP核版图文件、周围电路版图文件和用户设定的设计规则文件，所述IP核版图文件包括IP核检测版图和IP核版图的设计信息，所述周围电路版图文件包括位于IP核周围的电路的周围电路版图，所述设计规则文件包括版图设计中不同互连线、通孔、元器件和引脚电路结构之间的间距范围；利用所述IP核检测版图和所述IP核版图的设计信息，在所述计算机辅助设计单元中设计周围电路版图，并将形成的周围电路版图文件存储在数据存储单元中；设计规则检测单元将所述IP核检测版图、周围电路版图相结合进行设计规则检测，以获得符合设计规则的周围电路版图。