[发明专利]一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法有效
| 申请号： | 201210382798.1 | 申请日： | 2012-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN103706539A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 沈凯;陈琢;任宇航 | 申请（专利权）人： | 浙江尚颉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/02 | 分类号： | B05D1/02;B05D1/36;H01L31/032 |
| 代理公司： | 北京市盛峰律师事务所 11337 | 代理人： | 赵建刚 |
| 地址： | 311121 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法，包括以下步骤：S11，配置CsI溶液，所述CsI溶液的浓度为5wt％至50wt％；S12，配置SnCl2溶液，所述SnCl2溶液的浓度为10wt％至80wt％；S13，利用超声喷印系统将所述CsI溶液喷印到基底上；S14，利用超声喷印系统将所述SnCl2溶液喷印到所述基底上；S15，加热所述基底至干燥，在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。本发明超声喷印法制备三碘化铯锡(CsSnI3)薄膜的方法，在玻璃、陶瓷和金属箔等大面积基底上合成薄膜，不需要基于真空手段就能合成CsSnI3薄膜的方法，该合成或沉积方法是基于水基前驱体溶液的超声喷印沉积，可显著降低成本，使这种薄膜作为新的太阳能电池吸收材料将得到广泛的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超声 法制 碘化 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法，其特征在于，包括：S11，配置CsI溶液，所述CsI溶液的浓度为5wt％至50wt％；S12，配置SnCl2溶液，所述SnCl2溶液的浓度为10wt％至80wt％；S13，利用超声喷印系统将所述CsI溶液喷印到基底上；S14，利用超声喷印系统将所述SnCl2溶液喷印到所述基底上；S15，加热所述基底至干燥，在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江尚颉光电科技有限公司，未经浙江尚颉光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210382798.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
