[发明专利]新三层膜结构的光掩膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种新三层膜结构的光掩膜及其制备方法，新三层膜结构的光掩膜包括玻璃基片、阻挡层、遮光膜层及减反射膜层，所述阻挡层、遮光膜层及减反射膜层三层膜中至少有一层含有碳成分；在制备方法上，提供一个或多个Cr靶材，通过真空磁控溅射方法将阻挡层、遮光膜层及减反射膜层依次镀在玻璃基片上。本发明不仅解决因钠离子扩散造成的“凹陷”问题，而且相对现有技术的三层膜结构，本新三层膜结构的光掩膜能够确保蚀刻时间及良好的刻蚀速率；在制备过程中只需提供一种Cr靶材。

主权项

一种新三层膜结构的光掩膜，包括玻璃基片、阻挡层、遮光膜层及减反射膜层，所述阻挡层、遮光膜层及减反射膜层依次镀在所述玻璃基片上，其特征在于：所述阻挡层、遮光膜层及减反射膜层三层膜中至少有一层含有碳成分。