[发明专利]彩色滤光基板以及其相关制作方法无效
| 申请号： | 201210370695.3 | 申请日： | 2012-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102866532A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 袁继旺 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩色滤光基板以及其相关制作方法，所述彩色滤光基板的制作方法包含：提供一玻璃基板；于所述玻璃基板上，形成一色阻层；利用具有多种透光率的一掩膜，以对所述色阻层进行不同程度的曝光显影；根据曝光显影的结果，来蚀刻所述色阻层，以产生一黑色矩阵层，所述黑色矩阵层具有一第一区域以及一第二区域，所述第一区域的高度低于所述第二区域；以及于所述玻璃基板以及所述黑色矩阵层上，产生一彩色膜层；其中所述彩色膜层与所述黑色矩阵层的重叠处位于所述黑色矩阵层的第一区域内。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 及其 相关 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩色滤光基板的制作方法，用来制作一彩色滤光基板，所述制作方法包含：提供一玻璃基板；于所述玻璃基板上，形成一色阻层；其特征在于：所述制作方法另包含：利用具有多种透光率的一掩膜，以对所述色阻层进行不同程度的曝光显影；根据曝光显影的结果，来蚀刻所述色阻层，以产生一黑色矩阵层，所述黑色矩阵层具有一第一区域以及一第二区域，所述第一区域的高度低于所述第二区域；以及于所述玻璃基板以及所述黑色矩阵层上，产生一彩色膜层，其中，所述彩色膜层与所述黑色矩阵层的重叠处位于所述黑色矩阵层的第一区域内。
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