[发明专利]CdS单晶生长方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210359321.1 申请日: 2012-09-24
公开(公告)号: CN103668444A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 程红娟;徐永宽;史月增;李晖;张嵩;杨丹丹 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C30B29/50
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 张蕾
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种CdS单晶生长方法及装置,该方法包括:将CdS单晶籽晶置于抛光片上,然后将该抛光片放置在支撑台上;将CdS粉料和低阻掺杂剂放入坩埚内,所述坩埚放置在位于所述支撑台上的反应管内,所述反应管的外侧设有外管;所述外管设在加热炉内,将所述反应管内抽真空,并向所述反应管内通入载气;将生长区温度升至950-1015度,源区温度升至1000-1055度,进行CdS单晶生长,生长结束后,将炉内温度降至室温,取出生长后的CdS单晶;该装置包括:抛光片、支撑台、坩埚、反应管、外管和加热炉。本发明通过调控生长区和源区的温度,从而控制CdS单晶生长速度,近而使CdS单晶产生较小的应力,获得质量较高的大尺寸CdS单晶。
搜索关键词: cds 生长 方法 装置
【主权项】:
一种CdS单晶生长方法,其特征在于,包括:将CdS单晶籽晶置于抛光片上,然后将该抛光片放置在支撑台上;将CdS粉料和低阻掺杂剂放入坩埚内,所述坩埚放置在位于所述支撑台上的反应管内,所述反应管的外侧设有外管;所述外管设在加热炉内,将所述外管内抽真空,并向所述外管内通入载气;将生长区温度升至950‑1015度,源区温度升至1000‑1055度,进行CdS单晶生长;生长结束后,将炉内温度降至室温,取出生长后的CdS单晶。
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