[发明专利]CdS单晶生长方法及装置有效
申请号: | 201210359321.1 | 申请日: | 2012-09-24 |
公开(公告)号: | CN103668444A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 程红娟;徐永宽;史月增;李晖;张嵩;杨丹丹 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
主分类号: | C30B23/02 | 分类号: | C30B23/02;C30B29/50 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 张蕾 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种CdS单晶生长方法及装置,该方法包括:将CdS单晶籽晶置于抛光片上,然后将该抛光片放置在支撑台上;将CdS粉料和低阻掺杂剂放入坩埚内,所述坩埚放置在位于所述支撑台上的反应管内,所述反应管的外侧设有外管;所述外管设在加热炉内,将所述反应管内抽真空,并向所述反应管内通入载气;将生长区温度升至950-1015度,源区温度升至1000-1055度,进行CdS单晶生长,生长结束后,将炉内温度降至室温,取出生长后的CdS单晶;该装置包括:抛光片、支撑台、坩埚、反应管、外管和加热炉。本发明通过调控生长区和源区的温度,从而控制CdS单晶生长速度,近而使CdS单晶产生较小的应力,获得质量较高的大尺寸CdS单晶。 | ||
搜索关键词: | cds 生长 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种CdS单晶生长方法,其特征在于,包括:将CdS单晶籽晶置于抛光片上,然后将该抛光片放置在支撑台上;将CdS粉料和低阻掺杂剂放入坩埚内,所述坩埚放置在位于所述支撑台上的反应管内,所述反应管的外侧设有外管;所述外管设在加热炉内,将所述外管内抽真空,并向所述外管内通入载气;将生长区温度升至950‑1015度,源区温度升至1000‑1055度,进行CdS单晶生长;生长结束后,将炉内温度降至室温,取出生长后的CdS单晶。
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