[发明专利]基于横向剪切干涉结构的成像系统像差的测量方法有效
| 申请号： | 201210337416.3 | 申请日： | 2012-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102866001A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 戴凤钊;唐锋;王向朝;张敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J9/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于横向剪切干涉结构的成像系统像差的测量方法，测量系统包括光源、针孔掩模、剪切光栅、双窗口掩模、光电探测器和计算机，测量时将待测成像系统置于所述的针孔掩模和剪切光栅之间，测量步骤如下：①获取x方向和y方向的横向剪切干涉图；②获取x方向和y方向的差分波前；③利用模式法重建波前，获取区域法重建的初始值；④利用区域法重建波前，获得待测成像系统像差。本发明在不增加测量次数的基础上实现了高空间分辨率的成像系统像差的横向剪切法测量，并且测量精度对剪切量的变化不敏感，即波前测量误差不随剪切量的增大而明显增大。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 横向 剪切 干涉 结构 成像 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
一种基于横向剪切干涉结构的成像系统像差的测量方法，其特征在于该方法的步骤如下：首先通过横向剪切干涉测量系统获取成像系统的x方向和y方向的横向剪切干涉图；获取x方向和y方向的差分波前；利用模式法重建波前，得到区域法重建的初始值；利用区域法和所述的初始值重建波前，获得待测成像系统像差。
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