[发明专利]提高导热和过流能力的基板制作方法无效

专利信息
申请号: 201210336658.0 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN102833950A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 罗驰;刘欣;唐喆;叶冬;徐学良 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十四研究所
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/16;H05K3/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 一种提高导热和过流能力的基板制作方法,是在BeO材料片正面溅射Ti层和Cu层,光刻BeO基板的导带图形;电镀Cu层和Ni层,带胶溅射Au层;去光刻胶,腐蚀Cu/Ti,在所述BeO基板的背面溅射Ti、Ni和Au层,形成一种兼顾高导热能力和高过流能力的基板,大幅提高了基板的过流能力和耐焊性,基板热导率大于200W/m·K,过流能力为15A/mm,热膨胀系数和硅材料相当。本发明方法适用于大功率电路工艺制造领域。
搜索关键词: 提高 导热 能力 制作方法
【主权项】:
一种提高导热和过流能力的基板制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)准备BeO材料片、溅射Ti层和Cu层、光刻BeO基板的导带图形、电镀Cu层和Ni层,形成BeO基板的导带层,其中,BeO材料片上溅射Ti层和Cu层后,形成所述BeO基板,在BeO基板表面兼顾传输电流、元器件安装、引线互联功能的金属结构称为导带;(2)在BeO基板上带光刻胶溅射Au层、去光刻胶、腐蚀导带区域外的Ti层和Cu层,形成完整的导带区域;(3)在所述BeO基板的背面溅射Ti、Ni和Au层、形成功率基板的背面金属化结构。
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