[发明专利]工业化自动控制的等离子体源渗氮装置及其工艺无效
| 申请号： | 201210334758.X | 申请日： | 2012-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN102808146A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 雷明凯;李广宇;朱小鹏;李昱鹏;袁力江 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36 |
| 代理公司： | 大连星海专利事务所 21208 | 代理人： | 花向阳 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种工业化自动控制的等离子体源渗氮装置及其工艺，属于材料表面工程领域。这种工业化自动控制的等离子体源渗氮装置采用计算机自动监控渗氮系统分别与热电偶、电容薄膜式绝对压力真空计、直流脉冲电源、气体质量流量控制器相连，对等离子体源渗氮工艺多参数进行实时记录与自动控制。实现了等离子体源渗氮工艺过程的全自动化及对工件单位表面积渗氮剂量的精确控制，简化工艺流程，降低劳动强度，提高生产效率，并且，计算机控制过程中反馈相应快，控制精度高，保证工艺的可重复性和工件渗层质量。 | ||
| 搜索关键词： | 工业化 自动控制 等离子体 源渗氮 装置 及其 工艺 | ||
【主权项】：
一种工业化自动控制的等离子体源渗氮装置，包括：金属真空室（5）由顶端带有进气口（6）的圆柱形炉体（2）、置有抽气口（14）的底座（1）和密封圈（13）构成，金属网罩（9）置于金属真空室（5）内，并与炉体同轴，等离子体源是由作为阳极的圆柱形炉体（2）和作为阴极的金属网罩（9）构成，设在炉体外部的直流脉冲电源（8）向金属网罩（9）施加直流脉冲负偏压，工作台（3）置于陶瓷架（15）上与并底座（1）绝缘，插入工件（10）内部的热电偶（12）检测工件处理温度，电容薄膜式绝对压力真空计（4）测试金属真空室（5）内压强，其特征在于：所述渗氮装置采用计算机自动监控渗氮系统（11）分别与热电偶（12）、电容薄膜式绝对压力真空计（4）、直流脉冲电源（8）、气体质量流量控制器（7）相连，对等离子体源渗氮工艺多参数进行实时记录与自动控制。
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