[发明专利]晶圆减薄方法有效
申请号: | 201210333127.6 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN102825541A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 邢家明;洪齐元 | 申请(专利权)人: | 豪威科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;H01L27/146;H01L21/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201210 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种晶圆减薄方法,所述晶圆减薄方法包括:提供晶圆,并在所述晶圆中形成阻挡层;利用磨削工艺减薄晶圆;利用化学机械研磨工艺减薄晶圆至所述阻挡层。利用阻挡层标示出晶圆需要减薄到的位置,由此,利用化学机械研磨工艺便能实现对晶圆的减薄精度要求,避免了对于湿法刻蚀工艺的使用,由此也就避免了湿法刻蚀工艺所带来的一些缺陷,提高了晶圆减薄工艺的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 晶圆减薄 方法 | ||
【主权项】:
一种晶圆减薄方法,其特征在于,包括:提供晶圆,并在所述晶圆中形成阻挡层;利用磨削工艺减薄晶圆;利用化学机械研磨工艺减薄晶圆至所述阻挡层。
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