[发明专利]轧制铜箔有效
申请号: | 201210332530.7 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN103421977A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 室贺岳海;关聪至 | 申请(专利权)人: | 株式会社SH铜业 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/08;B21B1/40;H05K1/09 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鲜英;刘强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供具备高的耐弯曲性以及优异的耐折弯性的轧制铜箔。平行于主表面的多种晶面包含{022}面、{002}面、{113}面、{111}面、以及{133}面,由对于主表面的使用了2θ/θ法的X射线衍射测定而求出的、按照合计值为100的方式换算得到的各晶面的衍射峰强度比为I{022}+I{002}≥75,相对于具有{022}面、{113}面、{111}面、{133}面、以及{002}面的粉末铜的按照合计值为100的方式换算得到的衍射峰强度比的各晶面的衍射峰强度比、以及衍射峰的半宽度为[(I{113}/Io{113})×FWHM{113}]+[(I{111}/Io{111})×FWHM{111}]+[(I{133}/Io{133})×FWHM{133}]≤1.5,主表面的十点平均粗糙度≤1.2μm。 | ||
搜索关键词: | 轧制 铜箔 | ||
【主权项】:
一种轧制铜箔,其特征在于,其为具备主表面、并且具有平行于所述主表面的多种晶面的最终冷轧工序后、再结晶退火工序前的轧制铜箔,所述多种晶面包含{022}面、{002}面、{113}面、{111}面、以及{133}面,将由对于所述主表面的使用了2θ/θ法的X射线衍射测定而求出的、按照合计值为100的方式换算得到的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I{022}、I{002}、I{113}、I{111}、以及I{133}时,I{022}+I{002}≥75,由对于具有{022}面、{002}面、{113}面、{111}面、以及{133}面的粉末铜的JCPDS卡片或ICDD卡片中记载的所述各晶面的标准的衍射峰的相对强度而求出的、按照合计值为100的方式换算得到的所述各晶面的衍射峰强度比中,将所述{113}面、所述{111}面、以及所述{133}面的衍射峰强度比分别设为Io{113}、Io{111}、以及Io{133},将由对于所述主表面的所述X射线衍射测定求出的所述{113}面、所述{111}面、以及所述{133}面的衍射峰的半宽度分别设为FWHM{113}、FWHM{111}、以及FWHM{133}时,[(I{113}/Io{113})×FWHM{113}]+[(I{111}/Io{111})×FWHM{111}]+[(I{133}/Io{133})×FWHM{133}]≤1.5,所述主表面的基于十点平均粗糙度的表面粗糙度为十点平均粗糙度≤1.2μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社SH铜业,未经株式会社SH铜业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210332530.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。