[发明专利]双层涂布的负性光致抗蚀干膜

摘要

本发明提供了一种应用于印刷线路板的双层涂布的负性光致抗蚀干膜，包括载体薄膜、覆盖薄膜、光阻剂层及中间保护层，其特征在于：中间保护层位于载体薄膜及光阻剂层之间,是无色透明的，在光阻剂层的显影液中可溶解，与光阻剂层及载体薄膜具有良好的粘着力，但其与光阻剂层的粘着力要大于其与载体薄膜的粘着力的聚乙烯醇或含有羧基的高分子聚合物；光阻剂层的组份中含有高分子粘合剂、光游离基引发剂、可加聚单体、热聚合抑制剂，为进一步改善性能，还可以添加其它组分，如增塑剂、染料、增粘剂等。可以降低了载体薄膜的成本，使光阻干膜的解析度得以提高。

主权项

一种双层涂布的负性光致抗蚀干膜，由载体薄膜、覆盖薄膜、光阻剂层及中间保护层组成，其特征在于：中间保护层位于载体薄膜及光阻剂层之间是无色透明的，在光阻剂层的显影液中可溶解,其重量平均分子量为20,000～150,000，醇化度为60～100%的聚乙烯醇或含有羧基的高分子聚合物，其厚度在0.5μm及10μm之间；光阻剂层曝光的部分不溶于碱性的显影水溶液，而未曝光部分可溶于显影液而成像，其组份中含有高分子粘合剂、光游离基引发剂、可加聚单体、热聚合抑制剂，亦可添加包括染料,增塑剂或粘着剂在内的添加剂；光阻剂层厚度是在10μm～100μm之间；载体薄膜及覆盖薄膜均为没有光学透明及无色要求的可成膜的高分子材料。