[发明专利]通过化学气相沉积合成石墨烯的装置和方法无效
| 申请号： | 201210305599.0 | 申请日： | 2012-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN103451622A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 李雪松 | 申请（专利权）人： | 李雪松 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了通过化学气相沉积合成石墨烯的装置和方法。特别地，本发明提供了这样的装置，用于在限定了外部反应空间的反应器内的基材上合成膜。该装置包含容器体和一个或多个容器盖。一个或多个容器盖适于能拆卸地连接于容器体以与此形成反应容器。反应容器：i)包含石墨；ii)限定了适于容纳基材的内部反应空间；iii)适于放置在外部反应空间内；和iv)适于允许反应容器外的气体进入内部反应空间。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 化学 沉积 合成 石墨 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种在反应器内的基材上合成膜的装置，该反应器限定了外部反应空间，并且该装置包含：容器体；和一个或多个容器盖，所述一个或多个容器盖适于能拆卸地连接于容器体以与此形成反应容器，反应容器：i)包含石墨；ii)限定了适于容纳基材的内部反应空间；iii)适于放置在外部反应空间内；和iv)适于允许反应容器外的气体进入内部反应空间。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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