[发明专利]60Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法无效

专利信息
申请号: 201210298893.3 申请日: 2012-08-21
公开(公告)号: CN102786113A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 廖涛;程薇;熊光权;耿胜荣;李新;鉏晓艳;陈玉霞;叶敏;吴文锦;夏和舟 申请(专利权)人: 湖北省农业科学院农产品加工与核农技术研究所
主分类号: C02F1/30 分类号: C02F1/30;C02F1/78
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 朱盛华
地址: 430064 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种60Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法,残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水,先充入1ppm的臭氧,再经过60Coγ射线辐照产生化学反应,生成氧化性极强的·OH、还原性极强的水合电子eaq-、·H自由基,这些自由基·OH与多菌灵、噻菌灵和甲基托布津中的芳香族化合物或不饱和基团发生加成反应,导致三种杀菌剂降解。60Coγ射线辐照吸收剂量为5-10kGy,pH值为10以上。本发明通过60Coγ射线辐射与臭氧联用的处理技术,对有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的水溶液降解效果都比较显著,并且吸收剂量越大,药物的降解率越高。
搜索关键词: sup 60 co 射线 辐照 用于 降解 多菌灵 噻菌灵 甲基 托布津三种 杀菌剂 方法
【主权项】:
60Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法,60Coγ射线辐照残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水,经过辐照产生化学反应,生成氧化性极强的·OH、还原性极强的水合电子eaq‑、·H自由基,这些自由基·OH与多菌灵、噻菌灵和甲基托布津中的芳香族化合物或不饱和基团发生加成反应,导致三种杀菌剂降解,其特征在于多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水溶液中先充入1ppm的臭氧,形成残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的臭氧水溶液,再用60Coγ射线辐照,60Coγ射线辐照吸收剂量为5‑10kGy。
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