[发明专利]用于光学材料微区的非线性效应所引起的折射率和双折射变化的测量系统无效
| 申请号： | 201210295827.0 | 申请日： | 2012-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN102998283A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 加塞克·加拉斯;达赖厄斯·利特温;托马斯·科兹洛夫斯基;塔德斯·克里斯汀斯基 | 申请（专利权）人： | 应用光学研究所 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G01N21/23 |
| 代理公司： | 北京中安信知识产权代理事务所(普通合伙) 11248 | 代理人： | 张小娟 |
| 地址： | 波兰*** | 国省代码： | 波兰;PL |
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| 摘要： | 本系统包括飞秒激光（FS），光子光纤（SF）以及光学系统，该光学系统包括分光元件（DW）、两个光通道（KO1,KO2）和干涉仪测量系统，特别是以位于从光学系统中产生的测量光束的光轴上的VAWI干涉仪。第一光通道（KO1）包括具有形成测量光束的聚光器（K）的单色仪（MCR），并且该单色仪（MCR）在入口处连接至光子光纤（SF）。第二光通道（KO2）的反射镜系统包括能够改变在所述第二光通道（KO2）内的第二光束的光程的可移动反射镜（ZP）。测试材料（M）被置于位于测量光束和通过光通道（KO2）传输的第二光束的交叉处的测量区域内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学材料 非线性 效应 引起 折射率 双折射 变化 测量 系统 | ||
【主权项】：
用于非线性效应引起的折射率和双折射的变化的测试系统，它包括飞秒激光，光子光纤以及光学系统，该光学系统包括分光元件、两个光通道和干涉仪测量系统，特别是以位于从光学系统中产生的测量光束的光轴上的VAWI干涉仪的形式，其特征在于：第一光通道（KO1）包括具有形成测量光束的聚光器（K）的单色仪（MCR），并且该单色仪（MCR）在入口处连接至光子光纤（SF），以及第二光通道（KO2）包括具有改变在第二光通道（KO2）内的第二光束的光程的带可移动反射镜（ZP）的反射镜系统，其中，测试材料（M）被置于位于测量光束和通过光通道（KO2）传输的第二光束的交叉处的测量区域内。
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