[发明专利]光刻设备、投影系统和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备(1)，包括：投影系统(7)，其配置成将所述图案化的辐射束(9)投影到衬底的目标部分上；真空室(8)，在使用期间所述图案化的辐射束(9)被投影通过真空室；和净化系统(13、16、17)，其配置成在所述室(8)内提供净化气体流。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，其配置成调节辐射束；支撑结构，其构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，其构造成保持衬底；投影系统，其配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；真空室，在使用期间所述图案化的辐射束被投影通过所述真空室；和净化系统，其配置成沿所述室内光学装置的表面提供净化气体流路径，其中在离开所述表面为污染物颗粒的平均扩散长度至少两倍的间隔提供所述净化气体流路径。