[发明专利]一种用于高频电路板化学镀铜前处理溶液有效
申请号: | 201210269802.3 | 申请日: | 2012-07-31 |
公开(公告)号: | CN102758193A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | 袁金安;李辉;赵文应 | 申请(专利权)人: | 湖南利尔电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C18/22 | 分类号: | C23C18/22;C23C18/38;H05K3/38 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人: | 魏娟 |
地址: | 410329 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于高频电路板化学镀铜前处理溶液在印制电路板制造过程中的应用。该化学铜前处理溶液由以下组份和重量百分比组成:有机胺5-20%,磷酸酯0.5-10%,阳离子表面活性剂0.5-5%,表面活性剂0.5-3%,脂肪醇0.5-2%,其余为纯水。本发明的化学镀铜前处理液在处理非金属基材(主要指聚四氟乙烯基材)的高频印制电路板时,能够克服目前的化学镀铜前处理溶液对基材的电荷调整不完全,磷酸酯和阳离子表面活性剂能充分浸润孔壁和调整基材孔壁负电荷,并且吸附正电荷,提高活化剂胶体钯对孔壁的吸附效果,增强化学铜的催化活性。本发明抛开了使用等离子设备前处理高频板基材的传统工艺,直接使用该前处理就能满足孔内化学镀铜技术要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 高频 电路板 化学 镀铜 处理 溶液 | ||
【主权项】:
1.一种用于高频电路板化学镀铜前处理溶液,其特征在于,由以下重量百分比的组分组成:有机胺5-20%,磷酸酯0.5-10%,阳离子表面活性剂0.5-5%,表面活性剂0.5-3%,脂肪醇0.5-2%,其余为纯水;所述的有机胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或多种组合;所述的阳离子表面活性剂成份为聚季铵盐或季铵盐;所述的表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚醚;所述的脂肪醇为C1-C5的低链醇;所述的磷酸酯为式Ⅰ所示的烷基聚乙烯醚磷酸酯、式Ⅱ所示的烷基酚聚氧乙烯磷酸酯一种或多种组合,
式Ⅰ
式Ⅱ以上的R=CnH2n+1式Ⅰ中n为1-8的整数,式Ⅱ中n为0,以及1-8的整数,m为1-8的整数,M为H,CnH2n+1其中式Ⅰ中n为1-8的整数,式Ⅱ中n为0,以及1-8的整数,Na,或K。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南利尔电子材料有限公司,未经湖南利尔电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210269802.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种车用防弹装甲
- 下一篇:用于波前编码成像的相位板以及带宽可调波前编码系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理