[发明专利]金属氧化层的制造方法无效
申请号: | 201210265319.8 | 申请日: | 2012-07-25 |
公开(公告)号: | CN103572347A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 萧祖荫;吴冠霖;张子骏 | 申请(专利权)人: | 萧祖荫;吴冠霖;张子骏 |
主分类号: | C25D11/02 | 分类号: | C25D11/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾花莲县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提出一种金属氧化层的制造方法,其包含下列步骤:首先,提供一金属件,再置放该金属件至一电解液中以利用一微弧氧化制程处理该金属件,最后,在该金属件的表面形成一金属氧化层;其中,该电解液中包含有六偏磷酸钠、硅酸钠、偏铝酸钠、氢氧化钠、钨酸钠及碳酸钠;如此,该金属件产生高硬度的表面以避免破坏或磨损,且其在金属件表面具有较小的微孔洞,如此金属件表面可防止异物的堆积,进而具有高实用性。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种金属氧化层的制造方法,其特征在于,其包含下列步骤:提供一金属件;置放该金属件至一电解液中以利用一微弧氧化制程处理该金属件;及在该金属件的表面形成一金属氧化层;其中,该电解液中包含有六偏磷酸钠、硅酸钠、偏铝酸钠、氢氧化钠、钨酸钠及碳酸钠。
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