[发明专利]监测芯片内部电位的聚焦离子束方法有效
申请号: | 201210262421.2 | 申请日: | 2012-07-27 |
公开(公告)号: | CN103579034A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 马香柏;芮志贤;张君 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种监测芯片内部电位的聚焦离子束方法,包括:步骤1、对芯片做表面处理;步骤2、用聚焦离子束暴露出需要做桥联的监测节点A;步骤3、通过版图检查,找出距离所述监测节点A最近的不相关焊盘B点位置并将所述监测节点A和所述焊盘B进行桥联;步骤4、实现所述监测节点A和所述焊盘B之间桥联以后,采用聚焦离子束切除焊盘B的负载,使所述焊盘B处于浮空状态;步骤5、进行打线操作,把所述焊盘B引至封装端并连接到测试仪,进行动态信号或者多通道信号测量。本发明能在现有调查中推进使用,可以小成本快速排除设计问题或者工艺问题。 | ||
搜索关键词: | 监测 芯片 内部 电位 聚焦 离子束 方法 | ||
【主权项】:
一种监测芯片内部电位的聚焦离子束方法,其特征在于,包括:步骤1、对芯片做表面处理;步骤2、用聚焦离子束暴露出需要做桥联的监测节点(A);步骤3、通过版图检查,找出距离所述监测节点(A)最近的不相关焊盘(B)点位置并将所述监测节点(A)和所述焊盘(B)进行桥联;步骤4、实现所述监测节点(A)和所述焊盘(B)之间桥联以后,采用聚焦离子束切除焊盘(B)的负载,使所述焊盘(B)处于浮空状态;步骤5、进行打线操作,把所述焊盘(B)引至封装端并连接到测试仪,进行动态信号或者多通道信号测量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造