[发明专利]使用半导体薄膜做敏化剂的太阳电池光阳极及其制备无效
申请号: | 201210243209.1 | 申请日: | 2012-07-13 |
公开(公告)号: | CN103545112A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 李灿;张文华;郑霄家;于东麒;熊锋强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | H01G9/20 | 分类号: | H01G9/20;H01G9/042 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 马驰 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种使用半导体薄膜做敏化剂的太阳电池光阳极及其制备,其包含由纳米金属氧化物半导体材料、表面覆盖的半导体敏化剂薄膜组成的光阳极、可以发生氧化及还原反应的电解质以及对电极组成,光阳极与对电极使用热封膜隔开,中间注入电解质。其中,光阳极与电解质接触的界面处电解质发生氧化反应,对电极与电解质接触的界面处电解质发生还原反应。特点是光阳极采用n型宽带隙半导体材料,使用原子层沉积技术在宽带隙半导体材料表面生长多种n型半导体敏化剂薄膜组成太阳电池的光阳极,大大拓宽光阳极的吸光范围,同时半导体薄膜敏化层使宽带隙半导体与电解质隔开,大幅降低光生载流子在界面的复合,显著提高太阳电池的效率。 | ||
搜索关键词: | 使用 半导体 薄膜 做敏化剂 太阳电池 阳极 及其 制备 | ||
【主权项】:
使用半导体薄膜做敏化剂的太阳电池光阳极,其特征在于:于导电基底表面覆盖宽带隙半导体层,然后于宽带隙半导体表面生长多种窄带隙半导体,窄带隙半导体成薄膜状态均匀覆盖在宽带隙半导体表面。
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