[发明专利]一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置有效
| 申请号： | 201210231300.1 | 申请日： | 2012-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN103522171A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 邵尔剑 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，包含：氮气输送管道，该氮气输送管道分别连接外部的氮气源与抛光垫研磨盘；气阀，该气阀设置在氮气输送管道上。本发明能够控制氮气的开关，并与抛光垫研磨盘的工作进程同步；减少了氮气的使用量，大大节约了生产成本，显著提高了经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 研磨 氮气 输送 装置 | ||
【主权项】：
一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，其特征在于，包含：氮气输送管道（1），所述的氮气输送管道（1）分别连接外部的氮气源与平台调节器；气阀（2），所述的气阀（2）设置在氮气输送管道（1）上。
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