[发明专利]基于OpenGL的飞行模拟视景系统中地坑模拟方法无效

专利信息
申请号: 201210226106.4 申请日: 2012-07-03
公开(公告)号: CN102789652A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 高颖;郭淑霞;姬维君;李瑛;刘宁;陈卫军;刘琦;李南京;宋阳;张金汇 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种飞行模拟视景系统中特殊的地形模拟方法,尤其涉及一种基于OpenGL的飞行模拟视景系统中地坑模拟方法。其特征在于:在坑口所在平面上按照行和列分别等间隔取点,建立地坑的形状的数学模型:计算地坑表面内的高程值,对高程值采用OpenGL建模,再运行OpenGL程序得到飞行模拟视景系统中的模拟地坑。本发明提出的一种基于OpenGL的飞行模拟视景系统中地坑模拟方法,根据仿真目的,构造地形模型,再现飞行视景,能够达到非常逼真的仿真效果,客观、实时地再现仿真过程,可以为模拟飞行提供真实的效果。
搜索关键词: 基于 opengl 飞行 模拟 系统 方法
【主权项】:
1.一种基于OpenGL的飞行模拟视景系统中地坑模拟方法,其特征在于步骤如下:步骤1:定义地坑坑口平面的圆心为中心点,中心点坐标为(m,n);然后在坑口所在平面上m-c/a<i<m+c/a,]]>n-c/a<j<n+c/a]]>的坐标区间内,按照行和列分别等间隔取点,所取点的坐标为(i1,j1)、(i1,j2)、……(i1,jl)、(i2,jl)……(i2,jl)……(il,jl),l为任意整数;其中,a是自定义可变量,且a>0;c为地坑的深度;为坑口半径;步骤2:建立地坑的形状的数学模型:z为地坑表面内的高程值,且地平面的高程值z=0;其中:为所取点到中心点的距离,具体序列值为:x1,1=(n-j1)×(n-j1)+(m-i1)×(m-i1)]]>x1,2=(n-j2)×(n-j2)+(m-i1)×(m-i1)]]>……xl,l=(n-jl)×(n-jl)+(m-il)×(m-il);]]>步骤3:计算地坑表面内的高程值,当x≥r时定义高程值为0;当x<r时,根据公式计算坑口区域表面内每一点对应的高程值,得到坑口所在平面上每一点的高程值为z1,1、z1,2……zl,l;步骤4:将步骤3得到的高程值,采用OpenGL建模,再运行OpenGL程序得到飞行模拟视景系统中的模拟地坑。
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