[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210224723.0 申请日: 2012-07-02
公开(公告)号: CN102738328A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 韩杰;魏世桢 申请(专利权)人: 华灿光电股份有限公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 430223 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的外延片及制造方法,外延片包括:衬底、依次覆盖在衬底上的缓冲层、至少一个N型层、发光层、至少一个P型层和透明导电层,至少一个P型层中的一个P型层包括至少3个子P型层,各子P型层的厚度和掺杂浓度不同。方法:提供衬底并在衬底上依次生长缓冲层、至少一个N型层、发光层、至少一个P型层和透明导电层,生长至少一个P型层中的一个P型层包括:以第一预定掺杂浓度沉积,使P型层生长至第一厚度;以第二预定掺杂浓度沉积,使P型层生长至第二厚度;以第三预定掺杂浓度沉积,使P型层生长至第三厚度。本发明提高了发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 一种 发光二极管 外延 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底、依次覆盖在所述衬底上的缓冲层、至少一个N型层、发光层、至少一个P型层和透明导电层,其特征在于,所述至少一个P型层中的一个P型层包括至少3个子P型层,各所述子P型层的厚度和掺杂浓度不同。
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