[发明专利]等离子体反应室及具有其的等离子体装置有效
| 申请号： | 201210220530.8 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN103515179A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 武小娟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体反应室。所述等离子体反应室包括：腔体，所述腔体内具有腔室；静电卡盘，所述静电卡盘设在所述腔体内用于承载衬底；加热器，所述加热器设在所述腔体上用于加热所述腔体；和介质窗，所述介质窗设在所述腔体的上端用于封闭所述腔室的顶部开口，所述介质窗内设有加热流体通道。根据本发明实施例的等离子体反应室，通过设置加热流体通道且在通道内通入加热液与介质窗进行热量交换，从而实现对介质窗的快速、均匀升温，大大提高了等离子体反应室的刻蚀效率和刻蚀效果。本发明还公开了一种等离子体装置。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应 具有 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体反应室，其特征在于，包括：腔体，所述腔体内具有腔室；静电卡盘，所述静电卡盘设在所述腔体内用于承载衬底；加热器，所述加热器设在所述腔体上用于加热所述腔体；和介质窗，所述介质窗设在所述腔体的上端用于封闭所述腔室的顶部开口，所述介质窗内设有加热流体通道。
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