[发明专利]校正光学邻近校正模型的方法

摘要

一种校正光学邻近校正模型的方法，包括：提供具有图形的半导体衬底；对图形进行数据采样，获得采样数据；将采样数据分成第一组数据和第二组数据；利用第一组数据校正待校正的光学邻近校正模型，获得校正的光学邻近校正模型；利用校正的光学邻近校正模型获得模拟图形，对模拟图形进行数据采样获得模拟数据，与第一组数据对应的模拟数据与第一组数据之间的误差小于预定值；判断第二组数据对应的模拟数据与第二组数据之间的误差是否小于预定值；如果判断结果为是，将校正的光学邻近校正模型作为校正好的光学邻近校正模型；如果判断结果为否，重新校正待校正的光学邻近校正模型。本技术方案对待校正光学邻近校正模型进行校正耗费的时间相对很短。

主权项

一种校正光学邻近校正模型的方法，其特征在于，包括：提供具有图形的半导体衬底；对所述图形进行数据采样，获得采样数据；将所述采样数据分成第一组数据和第二组数据，且所述第一组数据包括所述图形中基准点的采样数据，所述基准点为决定曝光能量大小的图形；提供待校正的光学邻近校正模型；利用所述第一组数据校正所述待校正的光学邻近校正模型，获得校正的光学邻近校正模型；利用所述校正的光学邻近校正模型获得模拟图形，对所述模拟图形进行数据采样获得模拟数据，与所述第一组数据对应的模拟数据与所述第一组数据之间的误差小于预定值；判断所述第二组数据对应的模拟数据与所述第二组数据之间的误差是否小于所述预定值；如果判断结果为是，将所述校正的光学邻近校正模型作为校正好的光学邻近校正模型；如果判断结果为否，重新校正所述待校正的光学邻近校正模型。