[发明专利]磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201210163556.3 | 申请日： | 2012-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN102703872A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 赵铭 | 申请（专利权）人： | 广东友通工业有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人： | 李卫平 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶，包括有靶头和靶材，靶头设有可相对转动的靶芯和中空筒状的外壳，靶芯穿设于外壳中空部并延伸到靶材内中部，于靶芯之穿入靶材的部分外周分布有磁块，靶材的一端通过法兰与靶头的外壳轴向衔接在一起。本发明设计靶头设有可相对转动的靶芯和中空筒状的外壳，利用靶芯或中空筒状的外壳的转动来实现靶材与靶芯的相对转动，且设有冷却降温结构，从而使溅射更均匀，及时给靶降温，提升镀膜效果，获得更优产品，结构简单，科学合理，投资成本低，安装、使用方便，大大提高了设备的运行率和可操作性。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶，包括有靶头（1）和靶材（2），其特征在于：靶头（1）设有可相对转动的靶芯（11）和中空筒状的外壳（12），靶芯（11）穿设于外壳（12）中空部并延伸到靶材（2）内中部，于靶芯（11）之穿入靶材（2）的部分外周分布有磁块（3），靶材（2）的一端通过法兰（4）与靶头的外壳（12）轴向衔接在一起。
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