[发明专利]推片染色机的涂片推片洁净方法及装置

摘要

一种推片染色机的涂片推片的洁净方法，包括擦拭推片的步骤，擦拭涂片推片的步骤中通过具有吸收材料的擦拭装置擦拭涂片推片而洁净涂片推片表面。此外，还提供一种推片染色机的涂片推片的擦拭装置，擦拭装置通过吸收材料擦拭涂片推片，洁净涂片推片表面。通过擦拭的方式，吸收材料与涂片推片表面接触摩擦，将涂片推片表面的液渍等存留物擦拭吸收，完成对涂片推片的洁净，避免了涂片推片表面的残留污染，洁净效果好。

主权项

一种推片染色机的涂片推片的洁净方法，其特征在于，包括如下步骤：将涂片推片移动到预定位置；通过吸收材料制成的擦拭件擦拭所述涂片推片，其中所述擦拭件围成围裹，所述围裹具有相对的两个侧壁及连接于两个侧壁之间的底部，所述涂片推片需要擦拭的部分由所述围裹中与所述底部相对的开口插入并抵住所述擦拭件置于所述围裹内，围成所述围裹的所述擦拭件与涂片推片需要擦拭的部分的表面接触并相对移动。