[发明专利]一种金属纳米薄膜厚度的检测方法无效

专利信息
申请号: 201210088205.0 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102620642A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 李壮;温志伟;张悦;许富刚;孙玉静;石岩;戴海潮 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波;逯长明
地址: 130022 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供一种金属纳米薄膜厚度的检测方法,包括以下步骤:检测得到待测金属纳米薄膜的电阻值;根据所述电阻值和预先制定的金属纳米薄膜厚度与金属纳米薄膜电阻值之间的标准曲线,计算得到所述金属纳米薄膜的厚度;所述标准曲线为金属纳米薄膜的电阻值的对数与所述金属纳米薄膜厚度的倒数之间的标准曲线。本发明计算得到金属纳米薄膜电阻值的对数与其厚度的倒数之间存在良好的线性关系,从而得到金属纳米薄膜厚度与所述电阻值的标准曲线,根据所述标准曲线和金属纳米薄膜的电阻值,得到金属纳米薄膜的厚度。本发明提供的方法对金属纳米薄膜厚度的检测无需复杂的操作过程,简单方便,而且检测速度快,成本低。
搜索关键词: 一种 金属 纳米 薄膜 厚度 检测 方法
【主权项】:
一种金属纳米薄膜厚度的检测方法,包括以下步骤:a)检测待测金属纳米薄膜的电阻,得到所述金属纳米薄膜的电阻值;b)根据所述步骤a)得到的电阻值和预先制定的金属纳米薄膜厚度与金属纳米薄膜的电阻值之间的标准曲线,得到所述金属纳米薄膜的厚度;所述标准曲线为金属纳米薄膜电阻值的对数与所述金属纳米薄膜厚度的倒数之间的标准曲线。
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