[发明专利]一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液及制备方法有效
申请号: | 201210087658.1 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN102610699A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 蒋永锋;包晔峰;杨可 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C01B33/021 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液及制备方法,把硅片置入如下溶液中:包括组分:碳酸盐0-5%,有机醇5-10%,水85-90%,以重量百分比计;所述碳酸盐为碳酸钠或碳酸钾,所述有机醇为三乙醇胺或丙三醇,所述水为去离子水;以硅片为阴极,以惰性电极材料为阳极,在400-800V电压下,处理1-5分钟,取出硅片,即得到双面纳米多孔硅薄膜硅片;该方法与环境兼容性好,因溶液为室温,处理速度快,简化了硅片的处理工序,具有处理效率高、节能、环保的特点;本发明处理后的硅片表面纳米孔的直径和深度根据工艺调整,纳米孔的分布密度也可根据工艺可调,这样降低了成本,提高了光的转化效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 硅片 表面 纳米 多孔 薄膜 溶液 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液,其特征在于,包括如下组分:碳酸盐0‑5%,有机醇5‑10%,水85‑90%,以重量百分比计;所述碳酸盐为碳酸钠或碳酸钾,所述有机醇为三乙醇胺或丙三醇,所述水为去离子水。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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