[发明专利]一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液及制备方法有效

专利信息
申请号: 201210087658.1 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102610699A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 蒋永锋;包晔峰;杨可 申请(专利权)人: 河海大学常州校区
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C01B33/021
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 213022 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液及制备方法,把硅片置入如下溶液中:包括组分:碳酸盐0-5%,有机醇5-10%,水85-90%,以重量百分比计;所述碳酸盐为碳酸钠或碳酸钾,所述有机醇为三乙醇胺或丙三醇,所述水为去离子水;以硅片为阴极,以惰性电极材料为阳极,在400-800V电压下,处理1-5分钟,取出硅片,即得到双面纳米多孔硅薄膜硅片;该方法与环境兼容性好,因溶液为室温,处理速度快,简化了硅片的处理工序,具有处理效率高、节能、环保的特点;本发明处理后的硅片表面纳米孔的直径和深度根据工艺调整,纳米孔的分布密度也可根据工艺可调,这样降低了成本,提高了光的转化效率。
搜索关键词: 一种 用于 制备 硅片 表面 纳米 多孔 薄膜 溶液 方法
【主权项】:
一种用于制备硅片表面纳米多孔硅薄膜的溶液,其特征在于,包括如下组分:碳酸盐0‑5%,有机醇5‑10%,水85‑90%,以重量百分比计;所述碳酸盐为碳酸钠或碳酸钾,所述有机醇为三乙醇胺或丙三醇,所述水为去离子水。
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