[发明专利]一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品有效
申请号: | 201210086482.8 | 申请日: | 2012-03-28 |
公开(公告)号: | CN103358808A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 张宝利;朱军;李成垚;王晓利 | 申请(专利权)人: | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
主分类号: | B44F1/12 | 分类号: | B44F1/12;G02B3/00 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 肖冰滨;南毅宁 |
地址: | 100070 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明针对现有技术中的光学防伪元件制作难度高、工艺流程复杂、工艺可控性低和生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位的缺陷,提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品。根据本发明的光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层,其中,所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列,所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成,从而形成再现图像。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 防伪 元件 使用 产品 | ||
【主权项】:
一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层,其中,所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列,所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成,从而形成再现图像。
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