[发明专利]一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品有效

专利信息
申请号: 201210086482.8 申请日: 2012-03-28
公开(公告)号: CN103358808A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 张宝利;朱军;李成垚;王晓利 申请(专利权)人: 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司
主分类号: B44F1/12 分类号: B44F1/12;G02B3/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;南毅宁
地址: 100070 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明针对现有技术中的光学防伪元件制作难度高、工艺流程复杂、工艺可控性低和生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位的缺陷,提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品。根据本发明的光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层,其中,所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列,所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成,从而形成再现图像。
搜索关键词: 一种 光学 防伪 元件 使用 产品
【主权项】:
一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层,其中,所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列,所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成,从而形成再现图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司,未经中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210086482.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top