[发明专利]行星式跟踪喷头六轴五联动电解研抛机

摘要

本发明公开了一种行星式跟踪喷头六轴五联动电解研抛机，控制C轴的旋转盘托架安装在X-Y轴移动工作台上，在托架A上设有控制A轴旋转的步进电机A，控制B轴旋转的步进电机B设置在托架B上；磨头与主轴电机连接，在旋转盘托架上设有步进电机C，步进电机C通过蜗杆、涡轮驱动旋转台分度转动，在旋转台上设有组合凹模；电解酸液行星跟踪机构包括电解电源、电解液行星跟踪步进电机和的喷头，与磨头同步运动的喷头与电解液行星跟踪步进电机连接；步进电机A、步进电机B、步进电机C、电解液行星跟踪步进电机和主轴电机均与控制系统连接。本发明实现高效、高精度电解研磨加工，误差小，一致性好，表面平整光洁。

主权项

一种行星式跟踪喷头六轴五联动电解研抛机，其特征在于：该研抛机包括控制系统（1）、X‑Y轴移动工作台（2）、Z轴移动工作台（3）、旋转盘托架（4）、托架A（5）、托架B（13）、电解酸液行星跟踪机构（50）和磨头（21）；控制C轴的旋转盘托架（4）安装在X‑Y轴移动工作台（2）上，控制A轴的托架A（5）安装在Z轴移动工作台（3）上；在托架A（5）上设有控制A轴旋转的步进电机A（6），步进电机A（6）与轴（10）连接；在轴（10）上设有托架B（13），控制B轴旋转的步进电机B（14）设置在托架B（13）上；在托架B（13）上设有主轴电机（17），磨头（21）与主轴电机（17）连接，在主轴电机（17）与磨头（21）间设有绝缘装置（20）；在旋转盘托架（4）上设有步进电机C（31），步进电机C（31）通过蜗杆（32）、涡轮（33）与旋转台（34）连接，在旋转台（34）上设有组合凹模（36）；电解酸液行星跟踪机构（50）包括电解电源、电解液步进电机（23）和的喷头（26），与磨头（21）同步运动的喷头（26）与电解液步进电机（23）连接；步进电机A（6）、步进电机B（14）、步进电机C（31）、电解液步进电机（23）和主轴电机（17）均与控制系统（1）连接。