[发明专利]供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法有效
| 申请号： | 201210069435.2 | 申请日： | 2009-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102636960A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 朴相旭;高在升 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 梁兴龙;武玉琴 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供处理液供应单元和使用该单元的基材处理设备和方法。当喷嘴臂在等待位置等待的同时、在处理位置执行处理的同时以及在等待位置和处理位置之间移动的过程中，通过喷嘴臂和等待口之间的热传递以及喷嘴臂和喷嘴移动单元之间的热传递，可以维持内置在喷嘴臂中的处理液管道内的处理液温度。因此，通过该处理液供应单元和使用该单元的基材处理设备和方法可以将从喷嘴供应的处理液维持在预定温度。 | ||
| 搜索关键词： | 供应 处理 单元 以及 使用 基材 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种基材处理设备，包括：支撑基材的基材支撑单元；具有喷嘴和处理液管道的喷嘴臂，所述喷嘴安装在其上用于将处理液排放到置于所述基材支撑单元上的基材上，所述处理液管道内置在其中用于将处理液供应到所述喷嘴；和喷嘴移动单元，用于移动所述喷嘴臂，并通过利用所述喷嘴臂的热传递调节内置在所述喷嘴臂中的处理液管道内的处理液温度。
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