[发明专利]决定方法和计算机

摘要

本发明涉及决定方法和计算机。本发明提供一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，该方法包括：从要被用来评价与曝光条件对应地在投影光学系统的像面上形成的图像的多个评价项目中选择关注评价项目的步骤；选择与关注评价项目不同并且在改变包含于曝光条件中的参数值时沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变值的评价项目作为辅助评价项目的步骤；以及设定包含关注评价项目和辅助评价项目作为值的评价函数的步骤。

主权项

一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，所述曝光装置包括用于对掩模照明的照明光学系统和用于将掩模的图案的图像投影到基板上的投影光学系统，所述方法包括：第一步骤，从多个评价项目选择作为要被关注的评价项目的关注评价项目，所述多个评价项目要被用来通过与要在基板上形成的目标图案相比较而评价与曝光条件对应地在投影光学系统的像面上形成的图像；第二步骤，从所述多个评价项目中选择与关注评价项目不同并且在曝光条件中包含的参数值改变时沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变值的评价项目作为辅助评价项目；第三步骤，设定包含关注评价项目和辅助评价项目作为值的评价函数；第四步骤，改变参数值以使所述评价函数的值更接近目标值，并且对于与参数值对应地在投影光学系统的像面上形成的多个图像中的每一个，计算所述评价函数的值；以及第五步骤，决定在第四步骤中计算的所述评价函数的多个值之中与满足目标值的评价函数的值对应的参数值作为包含于曝光条件中的参数值。