[发明专利]一种酸性蚀刻液的处理方法有效
| 申请号： | 201210039680.9 | 申请日： | 2012-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN102534621A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 顾顺超;管世兵;严俊 | 申请（专利权）人： | 上海正帆科技有限公司;上海正帆半导体设备有限公司;上海交通大学 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 黄志达;谢文凯 |
| 地址： | 201108 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种酸性蚀刻液的处理方法，包括：(1)用酸性混合溶液对硅片进行蚀刻处理，将蚀刻处理后的混合溶液稀释，对混合溶液中的氢氟酸和/或醋酸通过非水中和滴定法进行定量分析，对混合溶液中的硝酸通过硝酸根电极进行定量分析，得到蚀刻后混合溶液的组成浓度增减量；(2)根据上述增减量，在蚀刻过程中或在循环液中添加浓度减少的酸，重新作为硅片的处理液即可。本发明通过蚀刻过程中排出的混合废酸液的有效利用，经济效益显著的同时，大大降低含有强酸成分的混合酸废液的排放，在环境问题上也具有巨大的效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 酸性 蚀刻 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种酸性蚀刻液的处理方法，包括：(1)用酸性混合溶液对硅片进行蚀刻处理，将蚀刻处理后的混合溶液稀释，对混合溶液中的氢氟酸和/或醋酸通过非水中和滴定法进行定量分析，对混合溶液中的硝酸通过硝酸根电极进行定量分析，得到蚀刻后混合溶液的组成浓度增减量；(2)根据上述增减量，在蚀刻过程中或在循环液中添加浓度减少的酸，重新作为硅片的处理液即可。
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