[发明专利]水浴槽及使用此水浴槽之薄膜沉积装置无效
申请号: | 201210035503.3 | 申请日: | 2012-02-17 |
公开(公告)号: | CN103255391A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 胡富顺;朱之杰;刘恒 | 申请(专利权)人: | 绿种子材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 孟帕里斯&卡尔德,P.O.Box*** | 国省代码: | 开曼群岛;KY |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种水浴槽包括:至少一槽体,装有第一液体;补充槽,装有第二液体;以及输送模块,连接补充槽与至少一槽体。当槽体中的第一液体的液面低于或等于第一位置时,输送模块适于将第二液体输送至槽体内直至第一液体的液面高于或等于第一位置时,输送模块停止将第二液体输送至槽体内。本发明提供的水浴槽可以自动补充液体至槽体,使槽体内的液面保持在一定的高度,温度更加稳定,且操作更加简单。本发明还提供一种薄膜沉积装置,以提升操作便利性。 | ||
搜索关键词: | 水浴 使用 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种水浴槽,包括:至少一槽体,装有第一液体;补充槽,装有第二液体;以及输送模块,连接该补充槽与该至少一槽体,当该槽体中的该第一液体的液面低于或等于第一位置时,该输送模块适于将该第二液体输送至该槽体内直至该第一液体的液面高于或等于该第一位置时,该输送模块停止将该第二液体输送至该槽体内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的