[发明专利]用低压冷焊制作装置的方法有效

专利信息
申请号: 201210029472.0 申请日: 2003-12-02
公开(公告)号: CN102544367A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 金昌淳;斯蒂芬·R·弗瑞斯特 申请(专利权)人: 普林斯顿大学理事会
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 蒋世迅
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了用低压冷焊制作装置的方法。本发明提供一种把金属和/或有机层,从已刻图的印模,最好是软的、弹性体印模,转印到基片的方法。该已刻图的金属或有机层,例如可以用于广大范围的电子装置。本方法特别适合用于有机电子部件的纳米尺度的刻图操作。
搜索关键词: 低压 冷焊 制作 装置 方法
【主权项】:
一种转印方法,包括:在已刻图的、软的弹性体印模上,淀积金属层,其中已刻图的、软的弹性体印模是混合印模;和通过将淀积在已刻图的、软的弹性体印模上的层冷焊到基片上的层或冷焊到所述基片,来把该金属层从已刻图的、软的弹性体印模,转印到所述基片上。
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