[发明专利]一种四结四元化合物太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210026736.7 申请日: 2012-02-08
公开(公告)号: CN102569475A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 毕京锋;林桂江;刘建庆;熊伟平;宋明辉;王良均;丁杰;林志东 申请(专利权)人: 天津三安光电有限公司
主分类号: H01L31/0725 分类号: H01L31/0725;H01L31/0735;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 天津市*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种四结四元化合物太阳能电池及其制备方法。在InP生长衬底上形成具有第一带隙、晶格常数与衬底晶格匹配的第一子电池,在所述第一子电池上形成具有比第一带隙大的第二带隙、晶格常数与衬底晶格匹配的第二子电池,在所述第二子电池上形成具有比第二带隙大的第三带隙的渐变缓冲层,在所述渐变缓冲层上形成其具有比第三带隙大的第四带隙、晶格常数小于衬底晶格常数的第三子电池,在所述第三子电池上形成具有比所述第四带隙大的第五带隙、晶格常数与第三子电池匹配的第四子电池,然后通过生长衬底剥离、支撑衬底键合、电极制备、减反膜蒸镀等后期工艺实现所需的高效四结太阳能电池。
搜索关键词: 一种 四结四元 化合物 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种四结四元化合物太阳能电池,其包括:InP生长衬底;第一子电池,形成于所述生长衬底之上,具有第一带隙,且其晶格常数与生长衬底匹配;第二子电池,形成于第一子电池之上,具有比第一带隙大的第二带隙,且其晶格常数与衬底匹配; 渐变缓冲层,形成于第二子电池之上,具有比第二带隙大的第三带隙,且其组分渐变,晶格常数随组分变化逐步缩小;第三子电池,形成于渐变缓冲层之上,具有比第三带隙大的第四带隙,且其晶格常数小于衬底和第一、二子电池;第四子电池,形成于第三子电池之上,具有比第四带隙大的第五带隙,且其晶格常数与第三子电池晶格匹配。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津三安光电有限公司,未经天津三安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210026736.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top