[发明专利]在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置有效
| 申请号： | 201180073600.5 | 申请日： | 2011-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103814331A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | J.哈特杰斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其中反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’)，至少一个进入通道(910、910’)在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸，其中该布置设计为利用在进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动反射镜(901)，其中该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在进入通道(910、910’)中传播的电磁辐射，以及其中热辐射装置可沿着进入通道(910、910’)致动。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 中热致动 反射 布置 | ||
【主权项】：
一种在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其中，该反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’)，该至少一个进入通道在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于该光学有效表面的表面延伸；其中，该布置设计为利用该进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动该反射镜(901)；其中，该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在该进入通道(910、910’)中传播的该电磁辐射；以及其中，该热辐射装置沿着该进入通道(910、910’)是可致动的。
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