[发明专利]从镀液中去除杂质的方法有效
申请号: | 201110463301.4 | 申请日: | 2011-12-28 |
公开(公告)号: | CN102534701A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 羽切义幸 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C25D3/32 | 分类号: | C25D3/32;C25D3/60 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 樊云飞 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及从镀液中去除杂质的方法。一种通过减少杂质,使包含硫脲或硫脲化合物的无电镀锡或锡合金镀液再生的方法,其通过以适当的量添加有机磺酸或有机磺酸化合物或其盐并随后冷却溶液以形成沉淀。然后从锡或锡合金溶液中去除沉淀。 | ||
搜索关键词: | 镀液中 去除 杂质 方法 | ||
【主权项】:
一种从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法,包括:a)提供包含一种或多种锡离子源和硫脲或硫脲化合物的溶液;b)在所述溶液中添加有机磺酸、有机磺酸化合物或其盐,以及c)冷却所述溶液以产生沉淀。
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