[发明专利]触控装置及其制造方法无效
| 申请号： | 201110461271.3 | 申请日： | 2011-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN103176643A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 黄正宗;王景昭;邱正茂 | 申请（专利权）人： | 瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 姜燕;邢雪红 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供触控装置及其制造方法，触控装置包含保护外盖，遮光图案设置于保护外盖上，紫外线阻断层设置于遮光图案和保护外盖上，以及多个透明导电图案设置于紫外线阻断层上，其中透明导电图案是由激光光束直接蚀刻透明导电层所形成。本发明可以降低制造触控装置的设备成本，减少制造设备所需的空间，并且不需使用光掩模；此外，本发明比较容易变更透明导电图案的设计，并且可降低触控装置的制造成本及提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种触控装置的制造方法，包括：提供一保护外盖；形成一遮光图案在该保护外盖上；涂布一紫外线阻断层在该遮光图案和该保护外盖上；形成一透明导电层在该紫外线阻断层上；以及使用一激光光束蚀刻该透明导电层，形成多个透明导电图案。
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