[发明专利]一种反应腔室喷淋系统无效
申请号: | 201110460673.1 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN102433551A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 崔军;彭侃 | 申请(专利权)人: | 汉能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种反应腔室喷淋系统,具体地讲是涉及一种低压化学气相沉积反应腔室的可移动式喷淋系统。该系统在反应腔室腔盖上固定有一套可使喷淋装置上下移动的机构,进水管路和气体管路通过该机构与喷淋装置连通。该系统结构相对简单,实现了喷淋装置的可移动化,可以通过调节工艺距离来控制镀膜质量,提高了生产的稳定性;同时将工艺气体安全可靠的送入喷淋系统,解决了工艺气体从外部接入到喷淋头系统的难题,提高了生产的安全性,且易于维护。 | ||
搜索关键词: | 一种 反应 喷淋 系统 | ||
【主权项】:
一种反应腔室喷淋系统,其特征在于在反应腔室腔盖上固定有一套可使喷淋装置上下移动的机构,进水管路和气体管路通过该机构与喷淋装置连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的