[发明专利]母版检测清洁装置无效
申请号: | 201110459661.7 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN103792786A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 田玉民;罗向辉 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种母版检测清洁装置,包括:母版夹持装置、检测装置和清洁装置。其中,母版夹持装置可移动地设置在母版检测清洁装置上;检测装置设置在母版夹持装置的一侧,用于检测待清洁母版的清洁度;清洁装置设置在检测装置的下游侧。本发明的母版检测清洁装置,通过检测装置检测母版的是否存在异物,并利用清洁装置对母版上的异物进行清洁,有效地防止了母版上的异物发生漏检的现象,确保母版上无异物的存在,杜绝了在生产过程中的由异物污染造成的产品上的公共缺陷。 | ||
搜索关键词: | 母版 检测 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种母版检测清洁装置,其特征在于,包括:可移动的母版夹持装置;检测装置(20),设置在所述母版夹持装置的一侧,用于检测待清洁母版(10)的清洁度;清洁装置,设置在所述检测装置(20)的下游侧。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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