[发明专利]一种镭射全息复合膜及其制备方法有效
申请号: | 201110449785.7 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN102529475A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 任心连;赵春光;方建明 | 申请(专利权)人: | 绍兴京华激光材料科技有限公司 |
主分类号: | B41M5/42 | 分类号: | B41M5/42;B44B5/00 |
代理公司: | 浙江翔隆专利事务所 33206 | 代理人: | 张建青 |
地址: | 312000 浙江省绍*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种镭射全息复合膜及其制备方法。在已印刷图文的复合膜或转移膜表面,用传统的方法涂布、模压全息,印刷图文尺寸存在着变形大的问题。本发明提供了一种在印刷图文表面上制作镭射全息的复合膜,其特征在于基膜的一面自上而下依次分别是印刷图文层、UV光油层、全息图像层、镀铝层。本发明的镭射全息复合膜采用先印刷、后在印刷图文表面上制作镭射全息,避免了印刷图文尺寸变形大的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 镭射 全息 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种镭射全息复合膜,包括基膜,其特征在于,所述基膜(5)的一面自上而下依次分别是印刷图文层(4)、UV光油层(3)、全息图像层(2)、镀铝层(1)。
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