[发明专利]用于射线摄影的栅格、射线图像检测器、射线成像系统以及用于制备栅格的方法无效
| 申请号： | 201110443383.6 | 申请日： | 2011-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102590913A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 金子泰久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G01N23/04;G01N23/20;A61B6/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于射线摄影的栅格、射线图像检测器、射线成像系统以及用于制备栅格的方法。多线图案中的周期性电极形成于非线性单晶基板的第一表面上。将非线性单晶基板放在真空室中，并且用加热器加热。之后，将高电压施加至非线性单晶基板。从而，非线性单晶基板的自发极化方向在面向周期性电极的部分中反转，所述部分称作反转部分。在将非线性单晶基板结合至支持基板之后，仅将非线性单晶基板的未反转部分通过湿蚀刻移除，并且将带有高纵横比的沟留在保留下的反转部分之间。将该沟用X射线吸收材料如金填充。填充有金的沟组成栅格的X射线吸收部分，同时反转部分构成X射线透过部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 摄影 栅格 图像 检测器 成像 系统 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于射线摄影的栅格，所述栅格包括：由非线性单晶制成的多个射线透过部分；和与所述射线透过部分交替排列的多个射线吸收部分。
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