[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110442480.3 | 申请日： | 2011-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102566308A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | M·W·M·范德维基斯特;汉斯·巴特勒;E·R·鲁普斯卓;伯哈德·古普特;M·H·H·奥德尼惠斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了光刻设备和器件制造方法，其中装置被提供用于降低在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的振动的程度。所公开的方法包括使用多个串联的弹性构件作为振动隔离系统的一部分，使用多个隔离框架分离地支撑第一投影系统框架和第二投影系统框架，和使用用于第一投影系统框架和第二投影系统框架与隔离框架之间的相互作用的修改的连接位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括第一元件和第二元件；第一振动隔离系统，用于抑制所述第一元件和所述第二元件之间的振动传播，所述第一振动隔离系统包括：弹性部分，所述弹性部分包括第一弹性构件、第一内部质量和第二弹性构件，所述第一弹性构件、第一内部质量和第二弹性构件被布置成分别地以串联的方式起作用。
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