[发明专利]一种高反射率酸腐片的加工方法无效
| 申请号： | 201110420552.4 | 申请日： | 2011-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102517584A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 由佰玲;孙希凯;张宇;罗翀 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/24 | 分类号： | C23F1/24;C30B33/10 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 莫琪 |
| 地址： | 300384 天津市西青区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明一种高反射率酸腐片的加工方法，通过控制硅片双面去除量和控制酸腐蚀液的浓度条件来提高酸腐片的表面反射率，将硅片双面去除量控制在：在80-90μm；将酸腐蚀液中的各化学成分按不同的重量百分比混合，其重量百分比浓度分别为：氢氟酸（HF）：8.07%，硝酸（HNO3）：41.30%，醋酸（CH3CCOH）：22.67%，纯水（H2O）：27.96%；在加工硅片过程中，酸腐蚀液的温度保持在25-40度范围内；维持续酸腐蚀液的浓度动态平衡；采用上述加工方法，所获得酸腐片的表面反射率达到90%，通过工艺控制，可以进行批量生产加工，而且质量稳定，节约大量加工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射率 酸腐 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种高反射率酸腐片的加工方法，其特征在于：采用氢氟酸、硝酸、醋酸、纯水和六氟硅酸混合配制的酸腐蚀液加工硅片，通过控制硅片双面去除量和控制酸腐蚀液的浓度条件来提高酸腐片的表面反射率，所述方法包括如下步骤：将硅片双面去除量控制在：在80‑90μm；将酸腐蚀液中的各化学成分按不同的重量百分比混合，其重量百分比浓度分别为：氢氟酸HF：8.07%，硝酸HNO3：41.30%，醋酸CH3CCOH：22.67%，纯水H2O：27.96%； 在加工硅片过程中，酸腐蚀液的温度保持在25‑40度范围内；每腐蚀50片硅片之后，就将在用酸腐蚀液排出一部分酸液，排出量为在用酸腐蚀液总量的2%‑‑3%，然后，补充同等数量酸腐蚀液来维持续酸腐蚀液的浓度动态平衡； 采用上述加工方法，所获得酸腐片的表面反射率达到90%。
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