[发明专利]连续式溅镀设备无效
| 申请号： | 201110402874.6 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN103147048A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 张庆州 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙。该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。本发明提供的连续式溅镀设备，遮蔽件能够减小靶材上端部的原子同时被撞击至基材上的几率，有效地提高了沉积至基材上的膜厚均匀性，能够适用于对外观性要求高的镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 式溅镀 设备 | ||
【主权项】：
一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙，其特征在于：该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110402874.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：滑动机构及带有该滑动机构的装置
- 下一篇：一种高频变压器
- 同类专利
- 专利分类
